阿斯麦TWINSCANXT:1950Hi光刻机

其他公告山东省 2026-04-29

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公告摘要：

阿斯麦TWINSCANXT:1950Hi光刻机
项目简介一、设备介绍 ASML TWINSCAN XT:1950Hi 是一款 193 纳米浸没式光刻系统，专为 300 毫米晶圆的高端芯片制造而设计。该设备目前处于可量产状态，在 38-28 纳米技术节点能提供卓越的分辨率和套刻精度。 •工......

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